EBS-530 电子束扫频控制器会生成大量与电子束 （e-beam） 沉积源配合使用的精密扫频图案。

Cygnus 2 薄膜沉积控制器在 INFICON 薄膜沉积控制器可靠成熟的性能基础上，增添了更多*的功能，可帮助您实现 OLED 过程的价值。Cygnus 2...

经济型单传感器可使产出达到，同时最大限度地降低成本。这些传感器通过延长传感器使用寿命和减少维护达到的可用性，同时通过低的初始投资和总拥有成本使生产成本降低。这些...

IQM-233 PCI Express 卡可使您的 PC 变成薄膜沉积控制器。这种由 INFICON 设计和制造的产品是系统 OEM 或要将薄膜沉积控制器集成到...

内置振荡器时，IMM-100 可以轻松地集成到 EtherCAT 系统中，只需极少的硬件和占地面积。这款功能强大且精确的测量监视器肯定会为您的过程带来新的性能水...

内置振荡器时，IMM-200 可以轻松地集成到以太网系统中，只需极少的硬件和占用空间。这款功能强大且精确的测量监视器肯定会为您的过程带来新的性能水平。

STM-2XM 配有五种操作模式，可适应从简单到复杂的各种过程。例如，使用简单模式仅监测单一传感器zui简单的过程，或使用合金模式进行共沉积监测。独立模式可将 ...

经济型双传感器为一个晶体可能不够的 QCM 应用提供简单并且廉价的解决方案。闸门将覆盖第二个晶体，直到需要该晶体完成过程。经济型双传感器使用两条真空电缆以便于在...

INFICON UHV 可烘烤晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性，提供超越当前市场上的任何传感器头的热稳定性。可烘烤传感器由 304 号不锈钢、钼、铬镍铁...

INFICON Crystal 12 传感器与INFICON IC6 薄膜沉积控制器结合使用时，可自动更换其晶体，而无需中断过程。晶体不稳定或失效时，IC6 会...

INFICON ALD 传感器将石英晶体微天平（QCM）测量的可重复性、精确性和耐用性带入原子层沉积 （ALD）。ALD 传感器可承受高达 450ºC...

SH-600 旋转式传感器头设计用于要求苛刻的工艺，采用非常厚的薄膜和几种不同的材料。RSH-600 将六颗晶体固定在热屏蔽、水冷却的壳体中，确保在温度高达 3...

膜厚监测和控制仪使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机...

IQM-233 PCI Express 卡可使您的 PC 变成薄膜膜厚控制仪。安装简便—只需您提供一个未占用的 PCI Express 插槽。IQM-233 可...

XTC/3 带有zhuanli ModeLock，提供跳模预防功能，确保获得始终如一的质量。通过 XTC/3 薄膜沉积控制器，您可以极其准确地控制沉积速度和厚度...

IC5INFICON石英晶体膜厚控制仪多用途的IC/5理想地适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。IC/5可满足即使zui复杂、zui...

SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机...

凭借技术、增强的显示和实惠的价格，INFICON SQC-310 系列提供同类薄膜控制器无法企及的优势。您可以为自己的应用选择理想的型号：连续沉积 （SQC-3...

IC6薄膜沉积控制器通过将INFICON薄膜控制器的成熟性能与功能相结合，提供的价值，所有这些都旨在让您从沉积过程中获得最大收益。IC6 使用我们的 ModeL...

INFICON 溅射传感器专为各种溅射过程而设计。镀金铍铜传感器体和冷却管在溅射环境中可实现冷却效果。传感器头内置的磁铁可抑制因外部磁场偏转溅射系统中的高能自由...